- Szilícium tartalom:A szilícium 2202 fém szilíciumtartalmának általában el kell érnie a 99,5%-ot, hogy biztosítsa tisztasági követelményeit csúcskategóriás alkalmazásokban. Minél magasabb a szilíciumtartalom, annál jobb teljesítményt nyújt az elektronikai és vegyi alkalmazásokban.
- Vastartalom:A vas a szilíciumfémek egyik fő szennyeződése, a 2202 szilíciumfém vastartalma nem haladhatja meg a 0,2%-ot. Az alacsony vastartalom különösen fontos az elektronika területén nyújtott teljesítmény biztosításához.
- Alumínium tartalom:Az alumínium egy másik gyakori szennyeződés, és a fém-szilícium 2202 alumíniumtartalma alacsony, általában nem haladja meg a 0,2%-ot. Ez biztosítja az anyag magas elektromos vezetőképességét és kémiai stabilitását.
- Kalcium tartalom:A kalcium jelenléte befolyásolja a szilícium fém mechanikai tulajdonságait, a szilícium fém 2202 nagyon szigorú követelményeket támaszt a kalciumtartalomra vonatkozóan, általában nem haladja meg a 0,02%-ot.
- Részecskeméret-eloszlás:A szilícium 2202 fémet általában részecske vagy por formájában szállítják, a részecskeméretre vonatkozó követelmények általában 10–100 mm-es egyenletes részecskék, vagy a felhasználói igények szerint beállítva. A szemcseméret-eloszlás közvetlen hatással van az anyagok reakcióhatékonyságára kohászati vagy kémiai reakciókban.
- Sűrűség:A fémes szilícium sűrűsége fontos fizikai tulajdonság, amely befolyásolja annak feldolgozását és felhasználását. A nagy sűrűségű fémszilícium általában jobb fizikai stabilitást mutat.
- Foszfortartalom:A foszfor káros szennyeződés, amely csökkenti a szilícium fém kémiai stabilitását és mechanikai tulajdonságait. A szilícium 2202 fém foszfortartalma általában nem haladja meg a 0,004%-ot.
- Kéntartalom:A kén fontos elem, amely befolyásolja az anyag ridegségét, és ennek tartalmát 0,02% alatt kell szabályozni.
- Széntartalom:A szénszennyeződések jelenléte hátrányosan befolyásolhatja a fémes szilícium elektromos tulajdonságait, ezért a tartalmát 0,02% alá kell korlátozni.
- Klórtartalom:A klórtartalmat szigorúan ellenőrizni kell, különösen, ha elektronikus minőségű szilícium előállítására használják.
- Spektrális elemzés (ICP-OES, ICP-MS):gyakran használják nyomelemek és szennyeződések szilícium tartalmának, például vas, alumínium, kalcium stb., nagy pontossággal és nagy érzékenységgel történő kimutatására.
- Kémiai elemzés:A szilícium tisztaságának és a szennyező elemek tartalmának kimutatására a hagyományos nedveskémiai elemzési módszerek használhatók.
- Röntgen fluoreszcens spektroszkópia (XRF):a fémes szilícium fő összetevőinek és szennyeződéseinek gyors elemzésére szolgál, különösen alkalmas a gyártási helyszínen történő gyors kimutatásra.
- Részecskeméret analizátor:A részecskék részecskeméret-eloszlásának meghatározására szolgál, hogy biztosítsa, hogy az megfeleljen a felhasználó részecskeméret-követelményeinek.
Amennyiben felkeltettük érdeklődését, kérjük lépjen kapcsolatba velünk az alábbi elérhetőségeken.